供应匀胶机

北京优仕锦科技发展有限公司根据半导体行业发展需要，配合光刻技术需要双面处理，开发出双面无划痕台式匀胶机，填补了国内企业在生产需求光刻工艺时，需要双面处理晶体匀胶而无法达到工艺要求。北京优仕锦公司根据这一要求，**开发出双面匀胶机，其匀胶承载体采用新型材料，“聚甲醛”作为特制托盘，其特点是在匀胶时，对工艺要求较高的光刻匀胶处理时，单面匀胶后在进行双面匀胶无划痕，有效的保护了表面微处理效果，是传统的铝合金制品托盘比拟不了的。同时聚甲醛托盘具有重量轻，配合匀胶高转速更精确，耐腐蚀等特点。北京优仕锦科技发展有限公司已经申请产品实用新型**。
 

KW-4A型匀胶机可广泛应用于新型显示技术研发，即非晶硅、微晶硅薄膜晶体管（TFT）阵列基板的制备，指通过旋转离心力的方式把胶体（如光刻胶、环氧树脂等）均匀的涂敷在光学器件上。该设备具有以下功能：能够保证实方形基板的匀胶膜厚度均匀性达到±3%，且表面无环形涟漪出现；能够**TFT阵列基板制备工艺技术的顺利开发，TFT阵列基板试验线的组建。（即适用于半导体、制版及表面涂覆等工艺，可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用）其销售市场为韩国，中国台湾，朝鲜，中国香港，美国（主要供应：美国HEADWAY公司 美国CHEMSOLS公司），及中国大陆

本机具有以下特点：
1、电机励磁和电枢分开供电。励磁用12伏直流稳压电源供电，电枢用运放控制IRF830调速，它比可控硅调速优越，故其转速在500—8000转/分范围内非常稳定。
2、本匀胶机有两档转速。在启动之后，先以低速运转，然后自动变到高速运转。两档速度及运行时间分别可调。
3、本匀胶机采用光电检测，数字电路测速，对电机的转速检测快速准确。电机稳速方面采用了光电隔离的精密负反馈电路，使整机在高达8000RPM以上转速时仍十分稳定，有力的保证了匀胶质量。
4、“吸片”采用电子开关控制电磁阀完成气路通断，这样适合流水线工艺，一个气泵可同时带几台匀胶机工作，提高效率。
5、匀胶机定时采用可调定时电路控制，面板上调节Timer旋钮即可改变匀胶时间。
6、在安装结构上，采取了减震措施，因而匀胶机在运转时噪音很低。
7、电磁阀与电机运行有连锁功能，电磁阀未动作不能启动电机运行，本次匀胶电机未停不能进行下次匀胶，若运行中误按“CONTROL”键也不能停止吸气，即不会产生跑片。
由于采用了以上一系列措施，故本机具有很高的转速稳定性和快速启动性，可以保证涂覆表面均匀，并可通过调节转速调节涂覆厚度。

设定参数：
        Speed A调速范围                 500—2500转/分
        Timer B匀胶时间                 0—18秒
        Speed A转速范围                 800—8000转/分
        Timer B匀胶时间                 0—60秒
        转速稳定度                      ±1%
        电源电压（二种）                220v/ 50Hz或110v /50Hz
        电机功率                        40W
        稳定涂膜尺寸                    Φ5—Φ100mm
        双级真空吸气要求                ≥60升/分 

        匀胶机主机尺寸：220mm X 210mm X 160mm
        包装外形尺寸：410mm X 410mm X 350mm
        重量：7.5KG